Istraživači sa Sveučilišta Kalifornija u Davisu u Sjedinjenim Američkim Državama, dizajnirali su novu masku za lice na bazi tkanine koja može uništiti do 99,99 posto bakterija, virusa i drugih patogena u roku od sat vremena od izlaganja dnevnom svjetlu.
Istraživači su naglasili da se ova maska, čija je baza pamučna tkanina, može prati deset puta i može biti kontinuirano izložena sunčevoj svjetlosti najmanje sedam dana, a da se pritom ne pogorša njena antimikrobna aktivnost, piše BusinessLine.
Provedena studija objavljena je u časopisu ACS Applied Materials and Interfaces.
Metodologija
Istraživači su planirali dizajnirati novi pamučni materijal koji će oslobađati reaktivne vrste kisika (ROS) kad je maska izložena dnevnom svjetlu, ubijajući mikrobe pričvršćene na površini materijala.
Također, htjeli su stvoriti materijal koji je istovremeno periv, ponovno upotrebljiv i siguran za korisnika, prenosi Geek.hr.
Tako su istraživači antimikrobni materijal pričvrstili nabijenim lancima 2-dietil aminoetil klorida (DEAE-Cl) na obični pamuk. Modificirani pamuk potopili su u otopinu negativno nabijenog fotosenzibilizatora – spoja koji oslobađa ROS nakon izlaganja svjetlosti – koji se snažnim elektrostatičkim interakcijama prikačio na lance DEAE.
Na taj način osobe mogu dezinficirati svoju platnenu masku tokom ručka vani na suncu ili provodeći duži period pod uredskim ili kućnim svjetlima koja su mnogo slabija od sunčeve svjetlosti.
Rezultati
Tim istraživača primijetio je da je fotosenzibilizator ubio 99,9999 posto bakterija dodanih u tkaninu i to u roku od sat vremena od izlaganja dnevnom svjetlu te je inaktivirao 99,9999 posto T7 bakteriofaga – virusa za koji se smatra da je otporniji na ROS od nekih koronavirusa. Inaktivirao ga je u roku od pola sata.
Kreirani materijal obećava izradu višekratnih, antibakterijskih ili antivirusnih platnenih maski za lice i zaštitnih odijela, naveli su istraživači.